頭影測量的標(biāo)志點(diǎn)、平面、角度、線距
一、標(biāo)志點(diǎn)：
1、顱部標(biāo)志點(diǎn)：鼻根點(diǎn)（N）、蝶鞍點(diǎn)（S）、耳點(diǎn)（P）、Bolton點(diǎn)；
2、上頜標(biāo)志點(diǎn)：眶點(diǎn)（Or）、前鼻棘點(diǎn)（ANS）、后鼻棘點(diǎn)（PNS）、上切牙點(diǎn)（UI）、上齒槽點(diǎn)（A）；
3、下頜標(biāo)志點(diǎn)：下切牙點(diǎn)（LI）、下齒槽點(diǎn)（B）、頦前點(diǎn)（Po，）、頦頂點(diǎn)（Gn）、頦下點(diǎn)（Me）、下頜角點(diǎn)（Go）；
4、軟組織點(diǎn)：鼻頂點(diǎn)（Prm）、軟組織頦前點(diǎn)（Pos）、軟組織頦頂點(diǎn)（Gs）、軟組織頦下點(diǎn)（Me）、上唇度突點(diǎn)（UL）、下唇度突點(diǎn)（LL）。
二、頭影測量平面：
（1）基準(zhǔn)平面：前顱底平面—SN、眼耳平面—FH、Boltond平面。
（2）測量平面：腭平面（ANS-PNS，PP，MxP）、顱底平面（Ba-N）、合平面（OP）、下頜平面（MP，MnP）、下頜升支平面（RP）、面平面（NPo）、NA平面、AB平面、APo平面、審美平面（Prm-Pos，E-line）
三、角度和線距：
01、顱底角（NSBa）：該角反映的是關(guān)節(jié)凹與顳下頜關(guān)節(jié)的位置。該角小時(shí)下頜趨向前，反之下頜后縮。
02、SNA角：表明上頜相對于前顱底的前后位置。該角大時(shí)上頜相對鼻根點(diǎn)前突，反之，后縮。
03、SNB角：該角表示下頜相對于前顱底的前后位置。該角大時(shí)下頜前突，反之下頜后縮。
04、ANB角：表示上頜骨和下頜骨的相對前后位置。該角越大時(shí)表示上頜前突或者下頜后縮，反之，上頜后退或者下頜前突。
05、面角（FH-NPo）：表示頦相對于面部其他部份的位置。面角增大表示頦部前突，反之后退。
06、A-B水平距（Wits）：由A和B點(diǎn)向功能合平面作垂線，其兩交點(diǎn)之間的距離。表示A點(diǎn)和B點(diǎn)之間的前后不調(diào)，顯示上頜基骨和下頜基骨之間的不調(diào)程度，修正ANB角的固有問題。BO在AO前負(fù)值，2mm以上，表示安氏III類錯(cuò)合，AO在BO前正值，表示安氏II類頜關(guān)系。
07、A-B平面角：A-B平面與面平面之間的上交角，表示上頜基骨和下頜基骨相對于面平面的前后關(guān)系。A點(diǎn)在面平面之前，該角為負(fù)值，負(fù)值越大表明安氏II類骨骼型。該正值越大，表示安氏III類骨骼型。
08、A-B合平面角：A-B平面與合平面之間的下后交角，該角越小，表明A點(diǎn)偏前或B點(diǎn)后縮，可表現(xiàn)安氏II類I分類錯(cuò)合。當(dāng)該角越大，可表示安氏III類錯(cuò)合伴有B點(diǎn)在A點(diǎn)之間。
09、下頜平面角（SN-MnP/MP）：表示了有關(guān)下面部的垂直關(guān)系和前后關(guān)系的信息。
10、腭平面角（SN-MxP/PP）：表示前鼻棘和后鼻棘在垂直向的位移和腭平面旋轉(zhuǎn)的信息。該角小時(shí)腭平面逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，下頜平面順時(shí)針旋轉(zhuǎn)。
11、腭平面-下頜平面角(MxP-MnP)：該角大時(shí)反映了下頜平面平陡，或腭平面后部向下，或二者兼有，此時(shí)可有前牙開合傾向。
12、前上面高（N-ANS，N-MxP）：從前鼻棘點(diǎn)向鼻根點(diǎn)至頦下點(diǎn)連線作垂線，垂足至鼻根點(diǎn)的距離。
13、前下面高（ANS-Me，Me-MxP）：從前鼻棘點(diǎn)向鼻根點(diǎn)至頦下點(diǎn)連線作垂線，垂足至頦下點(diǎn)的距離。該值越大，有骨性開合。
14、后面高/前面高（S-Go/Na-Me）：前面高表示從鼻根點(diǎn)至頦下點(diǎn)的實(shí)際距離，后面高表示從蝶鞍點(diǎn)至下頜角點(diǎn)的實(shí)際距離。正常比為62%，過大時(shí)表示面部呈水平矢狀方向生長，反之呈垂直生長。
15、上中切牙角（UI-SN）：表示上中切牙相對前顱底的傾斜度，該角過大表示上中切牙唇傾，如伴有位置前突，可內(nèi)收上前牙，如
UI-MxP：線角
16、下中切牙角（LI-MnP/IMPA）：<Tweed三角>，表示下中切牙對于下頜平面的傾斜度，該角過大，表示下中切牙唇傾，反之舌傾。
LI-Apo：突度距
< Tweed三角>:下頜平面-眼耳平面角（MP-FH/FMA），下中切牙-眼耳平面角（LL-FH/FMIA）
17、上下中切牙角（UI-LI）：表示切牙的突度。
18、審美線（E-Line）：鼻尖至軟組織頦部的切線。
E-line—UL/E-line—LL：點(diǎn)位于E線的唇側(cè)為正，舌側(cè)為負(fù)。
19、ODI值=AB平面與下頜平面的角度+腭平面與FH平面構(gòu)成的角度。（腭平面向前下方傾斜時(shí)角度正值，向前上方傾斜為負(fù)值。）該角越大進(jìn)，測深覆合的傾向明顯，反之開合傾向。
20、APDI值=面平面與FH平面的夾角+AB平面夾+腭平面與FH平面的夾角。（腭平面向前下方傾斜時(shí)角度正值，向前上方傾斜為負(fù)值。B點(diǎn)位于A點(diǎn)的后方為正值，前方時(shí)為負(fù)值。）該值越小，安氏II類錯(cuò)合傾向明顯，反之，安氏III類錯(cuò)合傾向明顯。
21、EI值=ODI+APDI+|上中切牙夾角-130|/5—（上唇突度+下唇突度）《審美線（E-Line）：鼻尖至軟組織頦部的切線。E-line—UL/E-line—LL：點(diǎn)位于E線的唇側(cè)為正，舌側(cè)為負(fù)。》該值越近期150，拔牙可能性越大，越近155，不拔牙的可能性越大。150-155間臨界病例。
信息來源：正畸學(xué)會
